深圳连续电镀设备 深圳市志成达智能自动化科技供应

电泳生产线的特点

1.高效均匀

涂层厚度可控（通常 5~30μm），且无论工件形状多复杂（如内腔、焊缝），均可通过电场均匀覆盖，尤其适合结构复杂的工件（如汽车车身）。

2.环保节能

电泳漆以水为溶剂，VOC（挥发性有机物）排放低，符合环保要求；电能和涂料利用率高，浪费少。

3.高防腐性

阴极电泳涂层具有优异的耐腐蚀性，是汽车车身防腐的工艺（如汽车底漆耐盐雾测试可达 1000 小时以上）。

4.自动化程度高

从工件上线到涂层固化全流程自动化，减少人工干预，提高生产效率和一致性。

5.适用范围广

适合批量生产，工件材质包括金属（钢铁、铝、锌合金等）、塑料（需导电处理）等。 温控设备集成加热管与冷水机，准确调节镀液温度（如镀硬铬需 50-60℃），确保电化学反映在好的区间进行。深圳连续电镀设备

电泳生产线是一种基于电泳涂装技术（Electrophoretic Deposition, EPD）的自动化生产线，主要用于在工件表面均匀涂覆一层涂料（通常为水性漆），形成具有防腐、装饰或功能性的涂层。

其原理:

利用电场作用，使带电的涂料粒子定向迁移并沉积在工件表面，是现代工业中常用的高效涂装工艺之一。

电泳生产线的主要应用领域

1.汽车工业

汽车车身、底盘部件、发动机零件、车轮等的底漆涂装，是汽车防腐的关键工艺（如整车电泳涂装线）。

2.家电与电子

冰箱、洗衣机、空调等金属外壳，以及电子元件、电机部件的防腐涂装。

3.五金与建材

门窗型材（铝合金电泳）、卫浴五金、工具、医疗器械等的表面处理。

4.航空航天与船舶铝合金部件的防腐涂装，海洋设备的耐盐雾涂层。 深圳连续电镀设备阳极装置分可溶性（如锌板、铜板）与不溶性（如铅板），维持电解液金属离子浓度，保障电镀反应持续稳定。

电镀周边设备有哪些？

1.镀槽：是电镀加工的设备，用于盛放电镀液，为电镀提供反应场所。根据电镀工艺和工件的不同，镀槽的材质、形状和尺寸也各不相同，常见的有聚丙烯、聚四氟乙烯等材质制成的镀槽。

2.整流器：其作用是将交流电转换为直流电，为电镀过程提供稳定的电流。电镀过程需要精确控制电流的大小和稳定性，以确保电镀层的质量和性能。

3.过滤机：用于过滤电镀液中的杂质、颗粒和悬浮物，保持电镀液的清洁度。过滤机通常采用滤芯式或滤袋式过滤，可根据电镀液的性质和过滤精度要求选择不同的过滤材料。

4.加热和冷却装置：加热装置通常采用电加热或蒸汽加热的方式，而冷却装置则多采用冷水机或冷却塔进行冷却。

5.搅拌设备：包括机械搅拌和空气搅拌等方式。

6.挂具：用于悬挂和固定待电镀的工件，使工件能够在电镀槽中与电镀液充分接触，并保证电流均匀地通过工件。7.行车：主要用于在电镀车间内吊运工件、原材料和成品等重物。

8.废气处理设备：电镀过程中会产生各种有害气体，如酸雾、碱雾和重金属废气等。废气处理设备通常采用喷淋塔、活性炭吸附装置、催化燃烧装置等，对废气进行净化处理，达标后排放。

全自动磷化线工作流程

1.前处理：晶圆清洗、去氧化层、活化表面。

2.装载：将晶圆固定于旋转载具，浸入镀液。

3.电镀：

施加电流，金属离子在晶圆表面还原沉积。

旋转载具确保镀液流动均匀，消除厚度差异。

4.后处理：镀层退火、清洗、干燥。

技术特点

1.高均匀性：

旋转+喷淋设计减少“边缘增厚”现象，镀层均匀性达±5%以内。

2.精密控制：电流密度精度：±1 mA/cm²；温度波动：±0.5℃。

3.洁净度保障：设备内建HEPA过滤系统，满足Class 1000以下洁净环境。

4.高效生产：支持多片晶圆同时处理（如6片/批次），UPH（每小时产量）可达50~100片。

应用场景

1.先进封装：2.5D/3D IC的TSV镀铜、Fan-Out封装中的RDL金属化。

2.功率器件：IGBT、MOSFET背面金属化（镀银、镀镍）。

3.传感器与MEMS：微结构表面镀金，提升电气性能与可靠性。 电镀设备中的挂镀装置，通过挂具悬挂工件，适用于汽车零件等中大件，可实现镀层均匀附着。

阳极氧化线的主要组成部分

1. 前处理系统

目的：表面油污、氧化皮和杂质，确保氧化膜与基体结合牢固。

工序：

除油-碱蚀 / 酸洗-多级水洗

2. 阳极氧化处理系统

氧化槽：

材质：耐酸碱的 PP、PVC 或玻璃钢，内置阴极板（铅板、不锈钢）和导电装置。

控制装置：

电源--温控系统--搅拌系统

电解液类型：

硫酸：常用，成本低，膜透明度高，适合装饰性氧化（如铝型材染色）。

草酸：膜硬度高、耐磨性强，用于硬质氧化（如航空零件）。

铬酸：膜层柔软、孔隙少，适合复杂工件或疲劳敏感零件（如汽车部件）。

3.后处理系统（功能拓展）

染色（可选）：利用氧化膜的多孔性吸附有机染料或金属盐，实现颜色定制。

封孔（关键工序）：

热水封孔：使氧化膜水合生成 Al₂O₃・nH₂O，堵塞孔隙，提升耐腐蚀性。

蒸汽封孔：高温蒸汽加速水合，适合厚膜（如硬质氧化）。

化学封孔：镍盐 / 钴盐溶液，形成氢氧化物沉淀封孔

干燥：热风循环或烘箱去除水分，防止封孔后白斑。

4.自动化控制系统

输送设备：悬挂式链条、龙门行车或机械手，实现工件在各槽间的自动传输。

参数监控：PLC 或工业电脑实时监测电压、电流、电解液浓度、温度、pH 值，自动补加药剂或调整工艺参数。 耐温设备针对高温电镀工艺（如黑色氧化处理），槽体采用耐高温 FRP 材质，耐受 100℃以上药液长期侵蚀。深圳连续电镀设备

自动化电镀设备集成 PLC 控制系统，联动传输装置实现工序时间、电压参数准确控制，提升效率。深圳连续电镀设备

半导体挂镀设备

1.基本原理与结构

挂镀工艺：晶圆固定在挂具上，浸入电镀液，通过精细控制电流、电压及溶液成分，在表面沉积均匀金属层。

组件：

电镀槽：耐腐蚀材质，配备温控、循环过滤系统，维持镀液均匀性

挂具与阳极：钛或铂金阳极，挂具设计适配晶圆尺寸，确保电场分布均匀

自动化传输：机械臂自动上下料，减少人工污染风险

控制系统：PLC/计算机实时调控电流密度、电镀时间、pH值等参数

2. 关键技术优势

高均匀性：通过脉冲电镀或水平电镀技术（如ECP），减少边缘效应，实现亚微米级镀层均匀性

低缺陷率：镀液杂质控制（＜0.1ppm）与膜厚在线监测，降低孔洞、结节等缺陷

高产能：支持多晶圆并行处理

3. 典型应用场景

芯片制造：

铜互连：在逻辑芯片中沉积多层铜导线，替代传统铝工艺以降低电阻

TSV填充：为3D封装提供垂直导电通道，实现芯片堆叠

先进封装：

凸块电镀：在晶圆表面形成锡、铜柱凸块，用于Flip-Chip键合

RDL（重布线层）：沉积铜层实现芯片I/O端口的重新布局

总结

半导体挂镀设备通过精密电化学控制与自动化技术，解决了纳米级金属沉积的均匀性与可靠性难题，是先进芯片制造与封装的装备。其性能直接关联芯片的导电性、散热及良率 深圳连续电镀设备